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小型电阻蒸发镀膜仪

型号：PVDM-5 品牌：SHIWEI是维

该设备是一款小型磁控溅射镀膜仪。

主要特点：

1、设备体积小，结构简单紧凑易于操作，对实验室供电要求低；

2、设备主要部件采用进口或者国内最优配置，从而实现设备更好的稳定性；

3、自主开发的智能操作系统在设备的运行重复性及安全性方面得到更好地保障。

该设备标配2只Φ2英寸永磁靶，一台 500W 直流溅射电源（用于溅射金属导电材料），1 台 300W 全自动匹配射频溅射电源（用于溅射绝缘材料），主要用来开发纳米级单层及多层的金属导电膜、半导体膜以及绝缘膜等。

技术优势

自主研发多项核心专利技术。

拥有材料、物理、光电、机械、集成电路等技术团队学科交叉。

以用户深度需求为导向，多维度多专业融合衔接。产品功能完善，精益求精，品质卓越，安全易用。

经验优势

技术、研发、售前、售后团队均在业内从事多年，拥有丰富的行业经验和项目经验，并可结合客户多层次需求，量身推荐工艺应用方案。

先进材料合成生长器件制备工艺生产全流程多个典型应用案例。

成本优势

通过掌握核心技术自主研发降本增效。品质与价格从源头把控。降低投入、减少维护费用及运行成本。

服务优势

服务是根本，服务是源头。

全流程+360度无忧服务

真空腔室	Ф250×260mm（具体尺寸以设计为准）），不锈钢材质，氩弧焊接；
样品台	Ф100mm，高度：60～120mm 可调，旋转：0-20r/min 可调，可加热至300℃；可选配偏压清洗功能；
真空系统	机械泵（3L/S）+分子泵(60L/s)；GDC-25电磁挡板阀；DN63mm 限流阀；
极限真空	8.0×10-5Pa；
真空抽速	大气～8×10-4Pa≤30min；
真空测量	全量程复合真空计，测量范围：105Pa～10-5Pa；
磁控靶	Φ2 英寸 2 只（含靶挡板），兼容直流/射频电源溅射；
溅射电源	1 台 500W 直流溅射电源，1 台 300W 全自动匹配射频溅射电源；
质量流量计	10sccm、50sccm 质量流量控制器各1套；
膜厚仪	国产膜厚仪；可选配进口Inficon SQM-160单水冷探头膜厚仪，测量精度0.1Å；
控制方式	PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障；
设备尺寸	L60cm×W60cm×H85cm 机电一体化机架，预留1个 CF35 法兰接口。