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高真空电子束复合热蒸发镀膜机

型号：PVEB-8 品牌：SHIWEI是维

该设备可以镀出高纯度高精度的薄膜，可制备金属单质膜、半导体膜、有机膜等。

工作原理：在高真空条件下利用电子束准确地轰击坩埚内靶材，使靶材融化进而沉积在基片上，在基底上凝结形成薄膜。

主要特点：

1、本设备采用一体化设计，具有较高的性价比，性能稳定，可为待蒸发的物质提供更高的热量，蒸镀的速率也更快；

2、电子束定位精准，可以避免坩埚材料的蒸发和污染；

3、该设备功能先进，PLC触摸屏控制，操控方便，结构紧凑，占地面积小

标配一台E型电子枪，另可选配1-2组金属源或者1-2组有机束源炉。特别适用于蒸发高熔点材料（如SiO2，AL2O3，Al、Au、Ag、Ni、Ti、Cr、Pt等）。

技术优势

自主研发多项核心专利技术。

拥有材料、物理、光电、机械、集成电路等技术团队学科交叉。

以用户深度需求为导向，多维度多专业融合衔接。产品功能完善，精益求精，品质卓越，安全易用。

经验优势

技术、研发、售前、售后团队均在业内从事多年，拥有丰富的行业经验和项目经验，并可结合客户多层次需求，量身推荐工艺应用方案。

先进材料合成生长器件制备工艺生产全流程多个典型应用案例。

成本优势

通过掌握核心技术自主研发降本增效。品质与价格从源头把控。降低投入、减少维护费用及运行成本。

服务优势

服务是根本，服务是源头。

全流程+360度无忧服务

真空腔室	Φ500×630mm；
真空系统	复合分子泵+旋片机械泵系统,气动真空阀门；
极限真空	优于2.0×10-5Pa；工作真空≤5.0×10-4Pa；
真空抽速	从大气抽至5.0×10-4Pa≤30min；
真空测量	“两低一高”数显复合真空计；
蒸发源	2组水冷式电阻蒸发源，并配有隔板及挡板，兼容金属与有机蒸发，可实现共蒸；
电子枪	E型电子枪，功率8KW，6穴坩埚；
基片台夹具	根据需求定制掩膜板；
气路控制	100sccm质量流量计1套；
膜厚仪	国产膜厚仪；可选配进口Inficon SQM-160单水冷探头膜厚仪，测量精度0.1Å；
控制方式	PLC+触摸屏智能控制系统，具备漏气自检与提示、通讯故障；
报警及保护	对真空泵、膜厚仪探头、电极等缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施；
设备尺寸	L60cm×W60cm×H85cm 机电一体化机架，预留1个 CF35 法兰接口。