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K-Cell 热蒸发源
型号：VKC      品牌：SHIWEI是维​

K-Cell 热蒸发源是使用辐射加热的原理，利用热灯丝加热放置在坩埚中的靶材，使材料受热蒸发，从而产成原子/分子束流，蒸镀到衬底上的一种镀源。特殊设计的灯丝结构，使坩埚受热均匀，确保蒸发稳定。高纯、低放气材料的使用，以及高效的水冷装置，确保其能够在超高真空环境中使用。


K-Cell蒸发源是专门用于超高环境下沉积有机/无机材料,其工作温度范围在50-1200℃。集成了PID温控、水冷、及手动/马达挡板。它通过可编程升降温曲线和充分优化的PID参数，实现极其精确的温度控制来沉积材料，同时保持极低的放气水平。

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技术优势
自主研发多项核心专利技术。
拥有材料、物理、光电、机械、集成电路等技术团队学科交叉。
以用户深度需求为导向，多维度多专业融合衔接。产品功能完善，精益求精，品质卓越，安全易用。
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经验优势

技术、研发、售前、售后团队均在业内从事多年，拥有丰富的行业经验和项目经验，并可结合客户多层次需求，量身推荐工艺应用方案。

先进材料合成生长器件制备工艺生产全流程多个典型应用案例。

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成本优势
通过掌握核心技术自主研发降本增效。品质与价格从源头把控。降低投入、减少维护费用及运行成本。
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服务优势
服务是根本，服务是源头。
全流程+360度无忧服务
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  热偶类型

  K-type；

  加热方式

  辐射加热；

  最大输出功率

  400 W；

  输入电压

  110~240 V AC；

  坩埚尺寸

  1 ~ 10 cc 可选；

  坩埚材料

  PBN, Al2O3,石英等；

  温度稳定性

  ± 0.1 °C；

  安装法兰

  DN 40CF；

  真空内长度

  150 - 450 mm可选；

  真空内最大直径

  34 mm；

  冷却方式

  集成水冷；

  冷却指标

  水流: 0.5 L/min水温: 15-20 ℃Φ 6.0 mm 快插头；

  挡板

  手动 / 马达 可选；

  最大烘烤温度

  200 °C；

  控制器

  集成PID温控；

  线缆

  5 m (根据用户要求定制长度) ,带快速插头。

技术参数
可用于沉积下面高亮的材料
部分用户案例