离子清洗机是一款超清洗设备, 采用等离子气体作为清洗介质，在短时间内能完全彻底地清除被清洗物表面的有机污染物，其清洗能力达到分子级。它具有性价比高、性能稳定、清洗效率高、操作方便、使用成本极低、易于维护等诸多优点。

设备优点：

• 性能稳定、性价比高、不使用化学溶剂、绿色环保无污染；

• 整机一体化，结构紧凑，清洗效率高，使用成本极低，易于维护；

• 工作参数可调可选，智能控制，人机界面友好，程序设置操作简单；

• 大容量清洗舱适合工业生产中批量样品的清洗，具有表面清洗、表面活化的功能；

• 常温条件下对样品进行非破坏性超清洗，气体清洗介质保证样品清洗后无二次污染；

等离子清洗的原理主要是活性粒子的物理作用和化学作用，那么在清洗不同的材料时，选择正确的介质气体，可收到事半功倍的效果。清洗的对象可以大致分金属和非金属两种，其中金属清洗的目的是主要是去除表面氧化物和有机物，非金属清洗主要是去除表面有机污染物，根据反应机理，气体有两种分类，一种是反应性气体（化学作用），主要是氢气、氧气、四氟化碳等；另一类是非反应性气体（物理作用），主要有氩气、氦气、氮气。

等离子清洗是一种非破坏性的表面处理技术，通过能量转换技术在一定负压状态下，电能将气体转化为极高活性的等离子体，等离子体轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面有机污染物进行超清洗，在极短时间内有机污染物被外接真空泵抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下等离子体也可使样品表面特性发生改变。由于采用气体作为清洗介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行杀毒和灭菌。目前，等离子清洗机已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。

在等离子清洗应用中常用的等离子体激发频率有三种：激发频率为40kHz的等离子体为中频超声等离子体，13.56MHz的等离子体为射频等离子体，2.45GHz的等离子体为微波等离子体。 超声等离子体(40KHZ)发生的反应为物理反应，射频等离子体(13.56MHZ)发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体(2.45GHZ)发生的反应为化学反应。

• LED、LCD、OLED、PCB等封装领域中的超清洗和改性，增强其粘附性
• 半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体的超清洗
• 移除光学元件等表面光阻物质，去除金属材料表面氧化物
• 清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶基片、高分子材料表面的修饰及改性
• 涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显著提高涂覆镀膜质量