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高真空电子束蒸发镀膜仪

型号：PEBE 品牌：SHIWEI是维

高真空电子束蒸发镀膜仪（Electron-beam Evaporation）是将镀膜材料放入水冷铜坩埚中，用高能密度的电子束轰击镀膜材料而使其蒸发的一种物理气相沉积PVD镀膜方法。电子束蒸发源由电子发射源、电子加速电源、坩埚(通常是铜坩埚)磁场线圈、冷却水套等组成。在该装置中，被加热的物质放置于水冷的坩埚中，电子束只轰击其中很少的一部分物质，其余的大部分物质在坩埚的冷却作用下一直处于很低的温度，可以看作被击部分的坩埚。因此，电子束加热蒸发的方法可以避免镀膜材料和蒸发源材料之间的污染。

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服务是根本，服务是源头。

全流程+360度无忧服务

技术优势

自主研发多项核心专利技术。

拥有材料、物理、光电、机械、集成电路等技术团队学科交叉。

以用户深度需求为导向，多维度多专业融合衔接。产品功能完善，精益求精，品质卓越，安全易用。

经验优势

技术、研发、售前、售后团队均在业内从事多年，拥有丰富的行业经验和项目经验，并可结合客户多层次需求，量身推荐工艺应用方案。

先进材料合成生长器件制备工艺生产全流程多个典型应用案例。

成本优势

通过掌握核心技术自主研发降本增效。品质与价格从源头把控。降低投入、减少维护费用及运行成本。

服务优势

真空镀膜腔室	真空腔室尺寸Φ500mm×H630mm，立式圆柱形、前开门结构，材质为优质304不锈钢，所有焊缝连接采用氩弧自动焊接技术，内表面抛光，外表面进行电抛处理；
主要部件布局	顶部：旋转电机一套；靠近公转基片架顶部通过法兰安装晶振膜厚仪探头一个；底部：底板布置一台电子枪、配挡板；侧部：预留CF35法兰2个；侧后部为Φ250mm分子抽气口及真空测量(抽气管拐弯处)等；侧开门：门中部设置Φ100mm观察窗及挡板；充气阀位于腔室左下侧位置。
基片台	采用旋转基片台结构布局，旋转基片台：基片架变速马达驱动,转速0-25rpm。超高真空磁流体动密封，旋转基片台尺寸约为5英寸。基片架由电机带动旋转，速度可调可控；
掩膜板	配套高精度掩模板，可根据客户的要求定做1套高精度掩膜板；基片与掩模板的配合间隙为0；
电子束蒸发源	采用高可靠高稳定性电子束蒸发源270°的电子束偏转角保证了发射源材料对膜层的无污染。双向、快速的电子束扫描系统及扫描电路，避免了靶材的“扎坑”弊病。精密的水路设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作。电子枪蒸发源坩埚工位为6穴位，有挡板装置。功率8KVA，1套偏转扫描电源，1套电子枪灯丝电源。
真空获得及测量	真空获得系统采用高性能分子泵和大抽速前级泵复合分子泵，抽速大、可靠性高。前级采用直联旋片泵，抽速为12-14L/S；GDQ-250,高真空气动挡板阀；GDQ-40,旁路阀、前级阀；Ф10mm气动放气阀1个。真空测量采用数显复合真空计测量真空度，（两低一高），真空测量范围：105～10-5Pa。电阻规：105～10-1Pa，2个，电离规：10-1～10-5Pa,1个。
真空密封	电子束蒸发镀膜仪真空密封：相对固定部分采用金属密封，可动部分采用氟橡胶+超高真空磁流体轴动密封。
电气及控制	电子束蒸发镀膜仪整套控制系统采用PLC+触摸屏控制；主要控制内容包括：分子泵、机械泵、各个阀门、水压报警等；基片架旋转；电子枪操作及控制；蒸发镀膜过程操作及控制。
气源及水路	气源系统及水路系统-真空专用气源：高压无燥声气体压缩机，为气动阀的开/闭提供动力；进水采用水压继电器控制。带制冷循环水机，控温范围10–25 ℃，为膜厚仪、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。
设备机架及控制柜	设备主机架及控制机柜：机架：碳钢制作，表面喷塑处理，不锈钢面板，支撑真空腔体及真空系统，底下配脚轮，方便移动、定位等机柜：标准机柜，组装总控制电源、真空系统控制、数显复合真空计、电源等。柜底下配脚轮，方便移动、定位等。
膜厚仪	选用高精度膜厚仪在线监测和控制蒸发速率和膜厚。

技术参数

功能优势

Four

1、独立开发的 PLC+触摸屏智能操作系统，具有智能控制模式和调试维修模式；

2、控制系统具备漏气自检与提示功能，当设备漏气时，系统会自动提示设备漏气，以便用户进行检漏，保证设备正常稳定运行；

3、控制系统具备保养维护提示功能，当设备运行达到一定时长，系统会自动提示设备需要维护保养，以便用户及时进行维护，保证设备正常稳定运行；

4、控制系统具备通讯故障自检功能，系统对分子泵、溅射电源、真空规、电机、流量计等部件的通讯进行自检，如果某个部件出现故障，可以按照系统中的各部件故障查询办法进行查询，及时确认故障原因，保证设备安全；

5、控制系统具备数据记录与导出功能，控制系统记录设备的操作记录及镀膜过程数据，可以在系统中查看这些数据，也可以用 U 盘导出这些数据；

6、该系统具备三个等级级密码保护功能，不同等级不同使用权限，确保设备的安全性和数据的保密性；

先进性

Three

设备主要零部件采用进口或国内知名品牌，保证了设备的质量及稳定性；

稳定性

方便性

1、设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性；

2、设备可与手套箱对接，灵活方便；

3、设备工作电压为 380V，对实验室的供电要求低；

Two

One

实用性

设备集成度高，结构紧凑，功能可靠稳定，占地面积小，可以放置于实验桌面上或者手套箱内。

应用领域

电子束蒸发是采用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜，电子束蒸发镀膜仪特别适用于难熔金属及非金属材料，如SiO2，AL2O3，Al、Au、Ag、Ni、Ti、Cr、Pt等；是钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、金属电极薄膜等科研实验和产业研发工艺生产专用设备，也广泛应用于纳米薄膜光电子器件制备及生产线前期工艺试验等。